その他講演会・セミナー

ウェーハプロセス専門委員会主催「持続可能な社会のために必要な技術開発」

★アンケートにご協力ください。
https://forms.office.com/r/FiS8mkJE1B
ご参加の皆様にPWを配信しております。入力してご覧ください。
★配布資料:髙石秀之様「水素ステーション用Oリングの実用化について」
配布資料20230213_1pw.pdf
★当日の接続URL
230213_当日のURL_PW.pdf

対象

SEAJ会員企業とその関係者

主旨

SEAJウェーハプロセス専門委員会では、真の顧客ニーズを把握するため、非ドメイン領域の技術障壁を理解する活動も行っています。
このたび、異色組合せながら、大幅なコストダウンを迫られる水素ステーションの民生利用に貢献する企業として、高石工業株式会社　社長　高石秀之様より水素ステーションOリング実用化、ならびに SiC パワートランジスタのご研究でトレンチのエッチング形状と耐久性の研究成果を英国　Swansea　大学教授のMike　Jennings　先生よりご講演いただけることになりました。
ともに 目指す点が 資源を効率利用する技術開発の点で共通しており、同様に SEAJ参画企業として 持続可能な先端技術開発を目指す点で一致しております。今回のご講演を通じ、会員企業皆様方の活力となれば幸いです。

開催日程・場所

講師

高石秀之 様（TAKAISHI, Hideyuki）

高石工業株式会社　代表取締役
President of Takaishi Industry Co., Ltd.

マイク　ジェニングス 先生（JENNINGS, Mike）

スオンジー大学（英国、ウェールズ）
Mike Jennings, Professor Swansea University

内容

第一部：高石秀之様　高石工業株式会社　代表取締役
水素ステーション用 O リングの実用化について
概要：
高石工業は創業以来75年に亘り「精密ゴムパッキングの製造・試作」を手掛け、そのコア業務を基にマイナス40度に耐え得る水素ステーション用Oリングを開発、脱炭素産業に参入した。装置業界になじみのあるゴムOリングという製品を通じ、高圧水素用のゴムOリング材料開発エピソードを主に取り上げながら、カーボンニュートラルをはじめ、環境問題に対する会社の取組を紹介します。

Part1: Hideyuki Takaishi, President of Takaishi Industry Co., Ltd.
Abstract:
Takaishi Industry Co., Ltd. established in 1946, has developed special O-ring for long time to meet the leading-edge industry.
The O-rings which can be used in hydrogen environment of -40℃ has a behind-the-scenes.
It is a small part but believed to help realizing Smart Society for your better life with the automotive system in near future.


第二部：マイク　ジェニングス教授　スオンジー大学（英国、ウェールズ）
概要：
英国Swansea大学の、パワーデバイス開発における研究活動について説明する。材料の検討のみならず特別な加工技術も含む。この分野の産業を支える企業クラスターを紹介する。

Part2: Mike Jennings, Professor Swansea University
Abstract:
Wide Bandgap Device Etching for Advanced Power Semiconductor Devices

This webinar will present an overview of the latest wide bandgap power device technologies and the corresponding etching research conducted between the Centre of Integrative Semiconductor Materials (CISM), Swansea University, KLA and other partners co-located within the South Wales Compound Semiconductor Cluster. This webinar will introduce the silicon carbide polytypes of 4H- (commercial) and 3C-SiC (research) from the electronic properties perspective and describe why etching technologies are important for the future of wide bandgap devices. Moreover, we introduce our etch processing results specifically developed for trench power MOSFET technology, correlating the process to electrical current-voltage characteristics. Finally, we describe how the etch process is crucial in delivering power semiconductor devices on other material systems including gallium nitride and gallium oxide moving forward into the coming decades. Preliminary electrical characterization related to etch processing of wide bandgap devices will be shown in the webinar.

タイムテーブル

お申込いただいたメールアドレスに配信する開封PWで、頁トップに掲載する「230213_当日のURL_PW.pdf」を開いてご覧ください。

■事前準備■　　

Teamsに接続する為に、以下について準備をお願いします。　

インターネットに接続できるPC
音声デバイス（マイク・スピーカー・ヘッドセット 等）

◇サポートされているブラウザ
Microsoft Edge　 Chrome　他
Teams講演会で利用するPCの環境を事前に確認の上、ご利用ください。

あらかじめアプリをインストールしておくとスムーズにゲストとして利用をすることができますが、インストールせず、ブラウザでの参加も可能です。

また音声/カメラデバイスの設定をテストしていただくことをお勧めします。

◇テスト通話を行う
テスト呼び出しを行う場合は、設定 Teams の上部にあるプロファイル画像の横にある [ など] を選択し、[設定> デバイス] を選択します。 [オーディオ デバイス] で [テスト通話を行う] を選択します。※詳細はMicrosoft Teamsのページへ

■当日の参加手順について■

1. 「230213_当日のURL_PW.pdf」をクリックし、記載の接続URLにアクセスしてください。
2. （アプリをインストールしない場合はWebブラウザが起動し、）Teams講演会の画面が開きます。
3. カメラの使用許可を求められる場合があります。「ブロック」を選択しても構いません。
4. [名前を入力] を入力し、[参加] をクリックします。オンライン講演会開催中に表示される名前を入力可能な場合は、「会社名」「氏名」がわかるようにして、事務局の出欠確認にご協力ください。　例）SEAJ後藤
5. アクセスするとすぐにTeams会議の画面が表示されます。共有画面が現れ、音楽が聴こえますので、音声調整にお役立てください。
   ★右下の人のマークをクリックすると会議の参加者が表示されます。★右下の吹き出しマーク（青枠）をクリックすると、チャット（インスタントメッセージ）の入力エリアが表示されます。

■その他Teams使用の際の注意事項■

• • 今後のセミナー運営の参考にする為、セミナーを録画させていただく場合がございます。予めご了承ください。※皆様は録音・録画をご遠慮下さい。
  • ご質問の仕方について
  • 内容について：
    ①講演中は「チャット」をご利用ください。講演終了後に回答していただく予定です。　
    ②講演終了後は「挙手」をご利用ください。「挙手」の上、司会者の指示に従いご発言下さい。
    ※ご質問はできるだけ早い方から順に対応します。
    ※時間内に回答しきれなかった分は、終了後のアンケートにご記入下さい。