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リソグラフィー専門委員会主催 技術講演会

 

   リソグラフィ専門委員会(2016-2017)では、2年目の活動テーマに、注目すべき技術 として、『高集積化ソリューションと関連技術の調査アイテム』 を挙げ、この度、この分野のトップレベルの有識者の方による技術講演会を企画いたしました。
  ご関係者はもちろん、周りにご興味のある方がいらっしゃいましたら、 ご紹介いただけますと幸いです。
  皆様のご参加をお待ち申し上げます。


開催日程
開 催 場 所

2017年12月21日(木)

 15:30(受付15:15)〜17:00

17:00〜18:00 講師を囲む情報交換会

(一社)日本半導体製造装置協会

(SEAJ)

島津製作所 東京支社 地図
       

15:30-16:30

「IRDSとSDRJの概要とリソグラフィー技術ロードマップ」

株式会社 先端ナノプロセス基盤開発センター(EIDEC)

代表取締役社長

石内 秀美様

 IRDS (International Roadmap for Devices and Systems)とSDRJ (システムデバイスロードマップ委員会、the System Device Roadmap Committee of Japan)の活動状況を紹介したあと、最新のIRDSの概要とその中のリソグラフィー技術ロードマップについて解説します。

17:00〜18:00 ご講演終了後、講師を囲む情報交換会を致します。

会場にお飲み物をご用意いたします。

 【対象】 SEAJ正会員・賛助会員限定となります。

 【参加費】    無 料

  【お申し込み方法】  件名を 「技術講演会 12/21」 として、ご連絡先を記載の上、  info@seaj.or.jp までメールにてお申し込み下さい。(要 ご参加者のe-mailアドレス・電話番号)

【定員】 40名

 9/25(月)までにお申込下さい。以降はお電話にてお問い合わせ下さい。

【担当】 事務局 星野・後藤 info@seaj.or.jp  03-3261-8262





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