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ウェーハプロセス専門委員会主催 技術講演会

「プラズマレスドライエッチングについて」

 

*定員となりましたので、お申込を終了とさせていただきました。

ご参加をご希望される場合はお電話にてお問い合わせ下さい。

 ウェーハプロセス専門委員会第2回定例会議では、持続可能なハーフトンマスクエッチング用ガスの紹介を受け、新たなマーケットを創出することを目的として、名古屋大学 客員教授 林 敏雄様をお招きし、温対法で規制されて行くドライエッチング用ガスについて、エッチング分野で将来持続可能なプロセスガス事例に関するご講演をいただくことといたしました。

 ご関係者はもちろん、周りにご興味のある方がいらっしゃいましたら、 ご案内いただけますと幸いです。皆様のご参加をお待ち申し上げます。


開催日程
開 催 場 所

2018年7月27日(金)

  15:30(受付15:15)〜17:00

17:00〜18:30 講師を囲む情報交換会

(一社)日本半導体製造装置協会

(SEAJ)

島津製作所 東京支社 地図
       
講師

 名古屋大学 客員教授   林 俊雄様 / IMBT  磯 博幸 様  

スケジュール

 15:30-16:00 T背景説明

           「マスク用ドライエッチングでの4ガス代替プロセス」   

      IMBT 磯 博幸  様                  
 16:00-17:00 Uご講演
     「プラズマレスドライエッチングについて」

      名古屋大学 林 俊雄 様

 17:00-18:00 講師を囲む情報交換会(懇親会)

概要

温対法で規制されて行くドライエッチング用ガスについて、エッチング分野で将来持続可能なプロセスガス事例に関するご講演いただきます。

   ・ Chemical Dry Etchingの歴史

   ・ 現在でも使われているCDE技術

   ・ プラズマレスドライエッチング技術とエッチング機構

懇親会

ご講演終了後、講師を囲む情報交換会を致します。

会場にお飲み物等をご用意いたします。

対象

 SEAJ正会員・賛助会員の皆様

費用

 無料    *講師を囲む情報交換会(懇親会)を含みます。

申込方法

お申込はこちらから⇒    < https://business.form-mailer.jp/fms/2fc5a5db90105 >

定員

 40名     ★ 7/23(月)までにお申込下さい。( 以降はお電話で↓↓)

担当

 SEAJ事務局 星野・後藤 info@seaj.or.jp   03-3261-8262





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