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「リソグラフィ専門委員会 技術講演会」    

WORDデータ

20160328questionnaire_lithography.docx


 リソグラフィ専門委員会(奥村正彦委員長)では、活動テーマに『10nm hpのリソグラフィのソリューションについての最新技術動向の調査・研究』 を挙げ、最新の微細化技術、市場の装置に対する要求・仕様調査をしてまいりましたが、この度有識者の方による技術講演会を企画いたしました。
 ご参加される方は、この講演でNGLの最新動向が網羅的にご理解いただけるかと 存じます。
 ご関係者はもちろん、周りにご興味のある方がいらっしゃいましたら、 ご紹介いただけますと幸いです。
 皆様のご参加をお待ち申し上げます。

日 時

 2016年3月28日(月) 15:00(受付14:45)〜17:00

場 所

SEAJ会議室  

主 催

 SEAJ技術部会 企画:リソグラフィ専門委員会

講演@

10 nm hp以降へ向けたパターニングソリューションの最新技術動向トピックス (EUVリ
ソグラフィ、DSA等)
東京エレクトロン株式会社 クリーントラックビジネスユニット

シニアマネージャ チーフサイエンティスト 

永原 誠司様
◆講演要旨:
学会などで発表された最新状況から、先端デバイスに向けたリソグラフィ業界の注目トピックスを議論します。また、デバイスパターンの忠実性を向上する新たなアプローチをご紹介します。

講演A

ナノインプリントリソグラフィの進捗

キヤノン株式会社 半導体機器事業部
NGL第一開発部 部長 高林 幸夫 様

◆講演要旨:

 ナノインプリントは、次世代リソグラフィ技術として低CoOと優れた解像性能で 注目されています。本講演では、弊社がNAND FLASHやDRAMなどの先端デバイスへ の適用に向け開発している新しいナノインプリント装置、それに搭載した技術の紹介など、マスクレプリケーションを含む最新のナノインプリント技術開発の状況と今後の展開について報告します。

対 象  SEAJ会員・SEAJ関係者
会 費  無 料 

お問合せ

 SEAJ 技術部 今井・後藤 TEL:03-3261-8260 e-mail:info@seaj.or.jp

◆参加を希望される方は、ご案内させていただきましたメール(3上旬予定)をご返信下さい。 

  または、件名を「技術講演会3/28」として、ご連絡先を記載の上、info@seaj.or.jpまでお送り願います。

  (要E-mailアドレス)

◆お申込いただきました方には1週間前頃に記載メールアドレスへ参加票をお送りいたします。

◆お申込の締切:定員(30名)になり次第締め切らせていただきますので、是非お早めにお申込下さい。



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